HYDRON? SE 220

專為半導體電子設計的 pH中性助焊劑清洗液

助焊劑清洗劑

HYDRON? SE 220是一款水基型單相清洗液,專門設計用于浸沒式清洗工藝。HYDRON? SE 220能夠有效去除芯片黏著后引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED等多種半導體電子器件上的助焊劑殘留，對于倒裝芯片、CMOS等器件也有的清洗效果。

相較于其他清洗液的優(yōu)勢：

由于其獨特的單相配方，HYDRON? SE 220能在浸沒式清洗工藝中提供的清洗結果。同時，可以輕松用去離子水進行漂洗，且漂洗后不會有任何殘留

該產(chǎn)品的pH呈中性，因此具有的材料兼容性，特別不會對芯片表面的鈍化層造成影響

HYDRON? SE 220能夠提供潔凈、被的銅表面，能使銅表面在短暫時間內(nèi)保持在理想狀態(tài)，為后續(xù)邦定、成型、黏膠等工藝做好準備

HYDRON? SE 220無閃點，可使用在浸沒式清洗設備中，且無需防爆保護

不含鹵素成分，氣味低

應用領域

去除污染物

清洗工藝

清洗技術

功率電子器件清洗

SiP封裝清洗

晶圓級封裝清洗

MEMS器件封裝清洗

攝像模組清洗