所需的外氣較多由于半導(dǎo)體工廠中，制程系統(tǒng)需使用大量的化學(xué)品和毒氣，這些化學(xué)品和毒氣所產(chǎn)生的揮發(fā)氣體和廢氣必須予以全數(shù)排除，故排氣量相當(dāng)大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時(shí)所補(bǔ)充的空氣量亦隨之增加。

空調(diào)系統(tǒng)24小時(shí)全天運(yùn)轉(zhuǎn)并監(jiān)控管理半導(dǎo)體工廠部分制程設(shè)備，對(duì)溫濕度變化極為敏感，如黃光區(qū)Stepper光學(xué)機(jī)臺(tái)，些微的溫、濕度變化均會(huì)使設(shè)備的準(zhǔn)度偏差，另外芯片等產(chǎn)品也必須置放在定溫定濕的環(huán)境下，故空調(diào)系統(tǒng)必須24小時(shí)監(jiān)控管理之。

半導(dǎo)體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導(dǎo)體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運(yùn)轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達(dá)到一定之要求標(biāo)準(zhǔn)外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當(dāng)?shù)目刂啤?/p>

凈室是一種以合理的成本開發(fā)高質(zhì)量軟件的基于理論、面向工作組的方法。凈室是基于理論的，因?yàn)閳?jiān)實(shí)的理論基礎(chǔ)是任何工程學(xué)科所不可缺少的。再好的管理也代替不了理論基礎(chǔ)。凈室是面向工作組的，因?yàn)檐浖怯扇碎_發(fā)出來的，并且理論必須簡(jiǎn)化到實(shí)際應(yīng)用才能引導(dǎo)人的創(chuàng)造力和協(xié)作精神。凈室是針對(duì)經(jīng)濟(jì)實(shí)用軟件的生產(chǎn)的，因?yàn)樵诂F(xiàn)實(shí)生活中，業(yè)務(wù)和資源的限制必須在軟件工程中予以滿足。后，凈室是針對(duì)高質(zhì)量軟件的生產(chǎn)的，因?yàn)楦哔|(zhì)量改進(jìn)管理，降低風(fēng)險(xiǎn)及成本，滿足用戶需求，提供競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。