凈室的定義為：將空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔凈的環(huán)境。亦即：這個環(huán)境中的微塵粒子相當少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應用在對環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導體生產(chǎn)、生化技術(shù)、生物技術(shù)、精密機械、制藥、和醫(yī)院內(nèi)的手術(shù)室等行業(yè)等，其中以半導體業(yè)其對室內(nèi)之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求范圍內(nèi)，才不會對制程產(chǎn)生影響。作為生產(chǎn)設施，凈室可以占據(jù)廠房很多位置。

溫濕度要求比一般空調(diào)高一般空調(diào)要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調(diào)必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內(nèi)。

半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

標準廠房設計規(guī)范

一、工業(yè)廠房設計必須貫徹執(zhí)行國家的有關(guān)方針政策，做到技術(shù)先進、經(jīng)濟合理、適用、確保質(zhì)量，符合節(jié)約能源和環(huán)境保護的要求。

二、本規(guī)范適用于新建和改建、擴建的工業(yè)廠房設計，但不適用于以為控制對象的生物潔凈室。本規(guī)范有關(guān)防火和疏散、消防設施章節(jié)的規(guī)定，不適用于建筑高度超過24米的高層工業(yè)廠房和地下工業(yè)廠房的設計。

三、條在利用原有建筑進行潔凈技術(shù)改造時，工業(yè)廠房設計必須根據(jù)生產(chǎn)工藝要求，因地制宜、區(qū)別對待，充分利用已有的技術(shù)設施。

四、工業(yè)廠房設計應為施工安裝、維護管理、測試和運行創(chuàng)造必要的條件。

五、工業(yè)廠房設計除應按本規(guī)范執(zhí)行外，尚應符合現(xiàn)行的國家標準、規(guī)范的有關(guān)要求。

六、工業(yè)廠房是由獨立一棟建筑物（車間），和獨立一棟建筑物（宿舍），兩棟建筑物之間距離標準是10米，近不得少于5米，以便消驗收合格。建筑物的占地面積與建筑面積的比例是1：3。