凈室，又稱無塵室、潔凈室或清凈室，是指一個具有低污染水平的環(huán)境，這里所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發(fā)性氣體。更準確地講，一個凈室具有一個受控的污染級別，污染級別可用每立方米的顆粒數(shù)，或者用顆粒大小來厘定的。低級別的凈室通常是沒有經(jīng)過的（如沒有受控的微生物），更在意的是凈室中的灰塵。

凈室系統(tǒng)，制造匹配規(guī)格之潔凈空氣，連續(xù)且穩(wěn)定供給足夠之潔凈空氣于使用端，凈室內(nèi)的制造區(qū)（FAB）。一般而言，制造潔凈空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經(jīng)過凈室系統(tǒng)各種處理單元設備之處理后進而得到匹配規(guī)格之潔凈空氣。以下簡單介紹其處理流程：外氣經(jīng)由外氣空調(diào)箱（Make-up Air Unit或MAU）初步過濾微塵（particle）并控制其溫濕度后，經(jīng)由回風管道間（Mech. Chase），將凈室之循環(huán)風量與外氣空調(diào)箱之補充風量混合，經(jīng)由冷卻盤管（Dry Cooling Coil）將回風管道間之回風降溫至凈室要求之規(guī)格，透過循環(huán)風扇（Fan Filter Unit或FFU）帶動凈室的氣流循環(huán)帶走微塵及熱量，后經(jīng)過超高性能過濾網(wǎng)（Ultra-low penetration air或ULPA Filter）過濾后，供應至Fab區(qū)。

所需的外氣較多由于半導體工廠中，制程系統(tǒng)需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產(chǎn)生的揮發(fā)氣體和廢氣必須予以全數(shù)排除，故排氣量相當大，為維持凈室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。

多層工業(yè)建筑的廠房絕大多數(shù)見于輕工、電子、儀表、通信、醫(yī)藥等行業(yè)，此類廠房樓層一般不是很高，其照明設計與常見的科研實驗樓等相似，多采用熒光燈照明方案。機械加工、冶金、紡織等行業(yè)的生產(chǎn)廠房一般為單層工業(yè)建筑，并且根據(jù)生產(chǎn)的需要，更多的是多跨度單層工業(yè)廠房，即緊挨著平行布置的多跨度廠房，各跨度視需要可相同或不同。