耀一環(huán)保廠家 干法脫硝 熱水鍋爐脫硝

現(xiàn)在不管是鍋爐還是窯爐在做脫硝的時候，大多數(shù)還是采用高分子脫硝工藝，利用高分子干法脫硝工藝進行煙氣氮氧化物的處理，是既經(jīng)濟又能達標(biāo)的一種好方法，利用高

分子顆粒脫硝劑作為高分子脫硝的還原劑，沒有水分的參與，不腐蝕，效率高，價格也便宜，是目前鍋爐脫硝及窯爐脫硝工藝?yán)镞吔?jīng)濟實用的。下面小編為大家介紹一下高分子脫硝工藝。

高分子脫硝工藝系統(tǒng)主要包括：上料系統(tǒng)、輸送系統(tǒng)、下料器系統(tǒng)、氣料分配器、噴射系統(tǒng)、電氣儀表及控制系統(tǒng)。

負(fù)壓上料系統(tǒng)：

負(fù)壓上料裝置輸送的方式是由操作人員通過負(fù)壓管從料包中將脫硝劑吸入料倉內(nèi)，陽光耀民高分子脫硝設(shè)備廠家達標(biāo)。極大的節(jié)省了人員的操作

時間，并做到了通過設(shè)備整體的稱重系統(tǒng)與PLC系統(tǒng)。

控制之間的聯(lián)動，設(shè)上、下料位容量數(shù)據(jù)參數(shù)，料倉內(nèi)物料分別在高、低位時由控制系統(tǒng)發(fā)出聲光報警，提醒要加料和料倉已滿料；高位料位數(shù)據(jù)參數(shù)報

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警時負(fù)壓上料裝置自動停止加料。

高分子脫硝系統(tǒng)主要設(shè)備按模塊化進行設(shè)計，主要包括氨水卸載模塊、氨水儲罐模塊、氨水輸送模塊、軟水儲罐模塊、軟水輸送模塊、PLC集中

控制模塊、壓縮空氣分配模塊、氨噴射模塊、氨逃逸j測模塊等。

高分子脫硝設(shè)備對于環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)要求氮氧化物降到50毫克以下的企業(yè)來說，高分子脫硝是比較不錯的選擇。固態(tài)高分子的脫硝工藝是一種爐內(nèi)脫硝工

藝，它采用粉體氣相自動輸送系統(tǒng)，在爐內(nèi)煙氣出口處及爐膛高溫區(qū)選擇幾處合適位置打孔將高分子脫硝劑噴入，在合適反應(yīng)溫度

區(qū)將NOx還原成H2和H2O。固態(tài)高分子HNCR脫硝工藝也是一種爐內(nèi)脫硝工藝。

做脫硝這些年大概對用戶也是有所了解的，以前的用戶都愿意安裝sncr脫硝，投資低呀，而且后期運行起來也沒有什么費用，但是現(xiàn)在經(jīng)過這些年

的使用，高分子脫硝比較受大家的喜愛了，投資和sncr差不了多少，主要是好處比sncr多很多呢，以下我就為大家詳

細(xì)的介紹以下高分子脫硝的優(yōu)點，希望您認(rèn)真的閱讀，對您以后采購脫硝設(shè)備肯定是有幫助的。

高分子脫硝技術(shù)沒有有害副產(chǎn)物，不形成二次污染；分子脫硝劑的反應(yīng)生成物為N2、CO2和H2O，無其它有機物產(chǎn)生，不生成有害副產(chǎn)物，不會形成銨鹽，也無氨逃逸現(xiàn)象。

我國大氣污染形勢嚴(yán)峻，排放勢在必行，有眼光的企業(yè)可以選擇這款HNCR高分子脫硝設(shè)備，算以后提標(biāo)也可以達到環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)，無需更換設(shè)

備，做到一步到位，無二次污染，后期運行費用，減少投資成本，為企業(yè)帶來更大的效益。我們是直接生產(chǎn)廠家不是中間商，歡迎來電咨詢或來廠

考察，獲得更詳細(xì)信息和技術(shù)方案。

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