負(fù)壓真空泵-真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用，真空鍍膜應(yīng)用的主要幾種方法。

真空鍍膜應(yīng)用，簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括：

首先是真空蒸鍍。其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。

其次是濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

第三，離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的，因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過(guò)程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

第四，真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

負(fù)壓真空泵-珂勒曦螺桿真空泵，單極突破0.1pa極限真空泵，可長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行，并且針對(duì)國(guó)內(nèi)高溫差、高濕度、高粉塵環(huán)境做了針對(duì)性優(yōu)化，更適應(yīng)國(guó)內(nèi)的各類(lèi)工況環(huán)境，實(shí)際應(yīng)用實(shí)現(xiàn)更低故障率，更低能耗，更高能效。廣泛應(yīng)用于電子光伏、包裝行業(yè)、真空模擬、風(fēng)洞實(shí)驗(yàn)和造紙與印刷等各種生產(chǎn)行業(yè)。