產(chǎn)品應(yīng)用：

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成：

PECVD系統(tǒng)配置：

1.1200度開(kāi)啟式雙溫區(qū)真空管式爐

2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng)，并配置管內(nèi)測(cè)溫系統(tǒng)。

3.預(yù)加熱開(kāi)啟式管式電爐

4.等離子射頻電源

5.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

6.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）

產(chǎn)品特點(diǎn)：

生長(zhǎng)溫度低；沉積速率快；成膜質(zhì)量好，適用范圍廣，設(shè)備簡(jiǎn)單。

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