拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。

廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。

1、 增加生產(chǎn)量， 操作人員不再需要中斷拋光工作,可以自動(dòng)的控制拋光液的噴涂。

2、 節(jié)省操作時(shí)間,提高產(chǎn)能。

3、 節(jié)省清洗時(shí)間， 拋光液是水性的配方, 拋光后工程的清洗工序更容易,可以節(jié)省的清洗時(shí)間。

4、 拋光輪壽命增加， 噴涂液體研磨劑對(duì)研磨輪之輪緣表面溫度有冷卻作用。

5、 大大減低 研磨輪的損耗， 從而增加研磨輪的壽命。

6、 增加產(chǎn)品的穩(wěn)定性能， 避免了人手操作的不確定性。

拋光時(shí)，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對(duì)工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時(shí)，可對(duì)光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時(shí)，常采用滾筒拋光的方法。