光掩?；?Photomask substrates勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當(dāng)前及未來(lái)微細(xì)加工光掩膜制作的主流感光材料（相當(dāng)于照相用的感光膠卷）。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過(guò)直流磁控濺射（SP）沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑（又稱光刻膠）或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。（勻膠鉻版是掩膜版的基材）

特性：勻膠鉻版具有高的感光靈敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，

二、應(yīng)用

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路芯片制造、集成電路高密度引線框架、半導(dǎo)體元器件、面板顯示器件、光學(xué)行業(yè)掩膜版、高密度印制線路板（PCB）行業(yè)等。

三、產(chǎn)品信息

1、尺寸規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)

尺寸代號(hào)

標(biāo)稱尺寸

（mm×mm×mm）

邊長(zhǎng)L實(shí)際值

（mm）

厚度T實(shí)際值（mm）

垂直度

（偏離90°的角度）

Min

Max

Min

Max

2006

50.8×50.8×1.50

50.0

50.8

1.40

1.60

≤7′

（≤0.05/25.40）

2506

63.5×63.5×1.50

62.7

63.5

1.40

1.60

3006

76.0×76.0×1.50

75.4

76.2

1.40

1.60

3009

76.0×576.0×2.30

2.20

2.40

3506

88.9×88.9×1.50

88.1

88.9

1.40

1.60

4006

100.0×100.0×1.50

100.8

101.6

1.40