氧化鈰拋光液 氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。 適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

CMP技術還廣泛的應用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業(yè)的急速發(fā)展，對拋光技術提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術，不能做到全局平面化，而化學機械拋光技術解決了這個問題，它是可以在整個硅圓晶片上平坦化的工藝技術。

蠟乳液是天然蠟與合成蠟等材料在乳化劑的作用分散于水中的一種多相體系的乳液，制備方法主要是相轉化的乳化法。 低熔點的蠟可賦予皮革表面蠟感，適度封閉粒面?zhèn)麣?，還可改善皮堆積性，防止熨燙或壓花時粘板。熔點較高的蠟乳液，則能賦予高光澤，可拋光，透明度，能用于苯胺涂飾。

蠟乳液可與加脂劑復配 在加脂劑中復配少量的乳化蠟改善和提高加脂劑的效果，通過試驗證明，向皮革加脂劑中復配1% ～ 5%的蠟乳液，可提高加脂劑的填充性能，提高加脂劑在皮纖維中的滲透性能，增加皮革的防水性能，使皮革手感滑爽、柔軟、豐滿。