拋光工藝參數(shù) 工藝參數(shù)有拋光劑的濃度和供給量，拋光時(shí)的壓力和線速度等。在小于某一濃度值之前，拋光速度隨拋光劑濃度的增加而增加，濃度值達(dá)之后，若再增加濃度，拋光速度反而降低。同樣，拋光劑的供給量在一定值時(shí)，拋光速度，之后若繼續(xù)增加供給量，拋光速度反而降低。適當(dāng)增加拋光時(shí)的壓力，可以增加拋光速度，但壓力過(guò)大，磨削作用加強(qiáng)，不利于光澤面的形成。拋光速度取決于拋光盤(pán)（具）的轉(zhuǎn)速，但線速度過(guò)大，拋光劑將會(huì)被甩出，造成浪費(fèi)。

一般而言，產(chǎn)品精磨后，產(chǎn)品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨后達(dá)不到上面的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類產(chǎn)品精磨后的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產(chǎn)品在拋光“干與濕”，溫度的升高，降溫中，強(qiáng)化拋光過(guò)程，發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)品在經(jīng)過(guò)“干拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達(dá)95度以上

拋光磨石在被加工產(chǎn)品上拋光，待拋光產(chǎn)品燙手后，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續(xù)加水或大量加水，否則，水的潤(rùn)滑作用將會(huì)使拋光達(dá)不到理想效果，也不能全部使用干拋光，過(guò)高的溫度會(huì)燒壞板面，而且會(huì)使板面出現(xiàn)裂紋。

拋光磨石一般有兩種：樹(shù)脂拋光塊；樹(shù)脂拋光盤(pán)。 產(chǎn)品的拋光：將拋光磨石放在被加工的產(chǎn)品上，用機(jī)械設(shè)備快速運(yùn)轉(zhuǎn)及“干拋光、濕拋光”來(lái)達(dá)到拋光效果，產(chǎn)品表面會(huì)出現(xiàn)很強(qiáng)的反射光，這是通常所說(shuō)的光澤度。 拋光的原理主要反映在2個(gè)方面：微粒研磨原理；物理化學(xué)原理。